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一、產(chǎn)品概況：

SMA-VMD10 高真空鍍膜指紋顯現(xiàn)系統(tǒng)能在極高真空環(huán)境中，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，應(yīng)用氣體放電使靶材蒸發(fā)，使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離，同時(shí),利用電場(chǎng)的加速作用，使被蒸發(fā)的物質(zhì)和反應(yīng)產(chǎn)生的沉積物吸附在客體上。由于蒸發(fā)的靶材特性各異以及遺留在客體表面的沉積物狀況的不同，使得指紋(手印) 紋線和客體背景之間形成反差,從而達(dá)到指紋(手印)指紋的理想顯現(xiàn)目的。

本產(chǎn)品采用高真空鍍膜技術(shù)顯現(xiàn)手印指紋，適用性廣，極大地提高了顯現(xiàn)率，對(duì)大部分非滲透性、半滲透性客體都適用。如光面皮革、塑料、絲綢、布料、陶瓷油漆面、電鍍面、玻璃、紙張、照片等，對(duì)陳舊手印、浸水指紋以及油脂手印、汗混合指紋、血潛指紋等疑難客體上手印的顯現(xiàn)，更有其他方法無法替代的優(yōu)勢(shì)，且在使用其他傳統(tǒng)方法顯現(xiàn)無果后，仍可采用真空鍍膜顯現(xiàn)獲取。特別是經(jīng)鍍膜顯現(xiàn)的指紋不影響后續(xù)的DNA提取, 是刑偵部門理想的勘察設(shè)備之一。

二、功能特點(diǎn)：

立柜式一體化設(shè)計(jì)：無外置部件, 結(jié)構(gòu)緊湊, 就位后即可運(yùn)行；

人性化設(shè)計(jì)：系統(tǒng)采用10英寸嵌入式大屏彩色液晶智能觸摸屏及工業(yè)級(jí)微機(jī), 全中文引導(dǎo)菜單, 運(yùn)行速度更快, 存儲(chǔ)數(shù)據(jù)強(qiáng)大, 各數(shù)據(jù)顯示簡(jiǎn)明快捷，實(shí)現(xiàn)了人機(jī)對(duì)話及系統(tǒng)工作狀態(tài)顯示；

真空室：為圓柱型造型，符合高真空受力均勻、壓強(qiáng)小的原理，確保超高真空度和經(jīng)久耐用。產(chǎn)品采用優(yōu)質(zhì)304不銹鋼制作，內(nèi)表面作拋光處理。超大視窗，內(nèi)置LED照明系統(tǒng)，能實(shí)時(shí)清晰觀察顯現(xiàn)全過程；

真空室物證載物臺(tái)：采用道軌滑輪抽垃式弧面形狀，方便取放檢材，對(duì)特殊檢材配有可拆卸掛件及可擴(kuò)、縮口徑的旋轉(zhuǎn)載物柱，其轉(zhuǎn)速與蒸發(fā)電離頻率吻合，鍍膜更均勻, 顯現(xiàn)更清晰；

配置三組蒸發(fā)源：在一次抽真空的狀況下，可進(jìn)行多次鍍膜，并自動(dòng)調(diào)整對(duì)應(yīng)的真空度和蒸發(fā)電流，以滿足最佳鍍膜要素，確保指印清晰顯現(xiàn)；

采用科學(xué)合理的抽真空系統(tǒng)：使真空室內(nèi)的最高真空度可達(dá)9X10-4Pa（9X10-7 mbar）；

配備高性能復(fù)合真空計(jì)：能精準(zhǔn)測(cè)量真空室內(nèi)的真空度，確保真空度準(zhǔn)確可靠，滿足優(yōu)異的顯現(xiàn)條件；

電子控制系統(tǒng)：具備真空抽氣、蒸發(fā)電流、載物轉(zhuǎn)臺(tái)、充放氣閥、水壓不足、突發(fā)斷電、操作失誤等保護(hù)裝置。經(jīng)PLC及真空測(cè)量實(shí)現(xiàn)順序操作, 具有連鎖保護(hù)功能和全自動(dòng)功能；

快速鍍膜：?jiǎn)未握婵斟兡と^程（含抽真空和鍍膜時(shí)間）≤10分鐘（提高顯現(xiàn)率20%~70%)；

廣泛的靶材選擇: 可蒸發(fā)金、銀、銅、鋅、鋁、鎳、銦等金屬及合金（根據(jù)需要選擇）；

操作模式: 自動(dòng)/半自動(dòng)/手動(dòng)；

具備內(nèi)置式循環(huán)冷卻功能；

具備鑰匙和秘碼輸入雙模式開機(jī)：有效防止他人誤操作；

具備網(wǎng)絡(luò)和USB接口：后期能進(jìn)行軟件升級(jí)，遙控操作及運(yùn)行數(shù)據(jù)導(dǎo)引；

具備故障報(bào)警功能：任何故障, 均有聲、光自動(dòng)報(bào)警；

具備斷電應(yīng)急功能：如發(fā)生斷電，可手動(dòng)取出檢材。

三、技術(shù)規(guī)格：

超大視窗: Ф500mm；

嵌入式大屏彩色液晶智能觸摸屏：10英寸；

孤形載物臺(tái)面積：860×500mm；

極限真空度： 9X10-4Pa（9X10-7 mbar）；

恢復(fù)真空抽氣時(shí)間：從大氣抽至5×10-3Pa≤5min，優(yōu)于滿鍍金真空度；

鍍膜顯現(xiàn)時(shí)間：?jiǎn)未握婵斟兡と^程（含抽真空時(shí)間）≤10分鐘；

不影響后期DNA提取：真空鍍膜顯現(xiàn)后的指紋, 仍可提取DNA；

物證顯現(xiàn)面積：最大820mm（長(zhǎng)）× 400mm（寬）；

三組蒸發(fā)源：分別可蒸發(fā)金、鋅、鋁、銅、鎳等金屬靶材；

道軌抽拉式物證載臺(tái)及物證載物支架，旋轉(zhuǎn)速度可調(diào)；

二級(jí)機(jī)械泵和復(fù)合分子泵抽真空系統(tǒng)；

內(nèi)置式水冷循環(huán)和風(fēng)冷系統(tǒng)；

操作模式：全自動(dòng)/半自動(dòng)/手動(dòng)；  

工作電壓：220V/50Hz，總功率：6KV；

外形尺寸：750mm（寬）×1240mm（深）×1600mm（高）；

真空室尺寸：Ф480X550mm，容積：100升；

總重量：500 KG